
光阻材料
SKU: photoresist001
光阻劑,亦稱為光阻或光阻劑,是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後,溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是微影製程中的關鍵材料,主要應用於積體電路和離散元件的細微圖形加工。
Price
NT$1,400

SKU: photoresist001
光阻劑,亦稱為光阻或光阻劑,是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後,溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是微影製程中的關鍵材料,主要應用於積體電路和離散元件的細微圖形加工。
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